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ASML revela avanço em fonte de luz EUV que pode aumentar produção de chips em 50%

ASML revela avanço em fonte de luz EUV que pode produzir 50% mais chips

Pesquisadores da ASML anunciaram um avanço significativo na fabricação de chips: uma nova fonte de luz que pode aumentar a potência para 1.000 watts, possibilitando a produção de até 50% mais microprocessadores. Essa inovação deve ser implementada até o final da década, consolidando a posição da empresa holandesa frente a concorrentes dos EUA e China.

Tecnologia Essencial

A ASML é a única fornecedora global de máquinas de litografia ultravioleta extrema (EUV), fundamentais para empresas como Taiwan Semiconductor Manufacturing Co e Intel. Recentemente, as máquinas foram alvo de restrições ao envio para a China, levando o governo chinês a investir no desenvolvimento de tecnologia própria.

O aumento de potência permitirá processar cerca de 330 wafers de silício por hora, em comparação aos 220 atuais. Segundo Teun van Gogh, vice-presidente executivo da ASML, isso resultará em chips produzidos a um custo significativamente menor.

Inovação Tecnológica

A ASML alcançou esse marco ao duplicar o número de gotas de estanho utilizadas na produção de luz e ao modificar o método de transformação em plasma. Com isso, esperam atingir rapidamente 1.500 watts e, futuramente, até 2.000 watts.

Expertos, como Jorge J. Rocca da Universidade Estadual do Colorado, consideram o aumento de potência um feito notável, caracterizando as máquinas como algumas das mais complexas já criadas.

Matéria completa em: https://www.cnnbrasil.com.br/economia/negocios/asml-revela-avanco-em-fonte-de-luz-euv-que-pode-produzir-50-mais-chips/

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